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石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機(jī)

石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機(jī)

產(chǎn)品型號: GMD2000

所屬分類:研磨分散機(jī)

更新時間:2024-11-06

簡要描述:石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼。

詳細(xì)說明:

一、關(guān)鍵詞搜索

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二、研磨分散機(jī)的設(shè)計

SGN研磨分散機(jī)設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

三、石墨烯的簡介

石墨烯自身的間內(nèi)躍遷及等離子體振蕩帶來的*光學(xué)特性,用于紅外光探測有著突出的優(yōu)勢。但也存在著明顯的劣勢:本征石墨烯自身由于光吸收率低、缺乏光增益機(jī)制,導(dǎo)致石墨烯探測器的光響應(yīng)率較低;石墨烯自身的光生載流子壽命短,僅皮秒左右,導(dǎo)致光生載流子難以有效收集,也嚴(yán)重影響探測器的光響應(yīng)率,石墨烯探測器的低響應(yīng)率無法滿足實際應(yīng)用的需要。目前,通過對石墨烯進(jìn)行量子點(diǎn)修飾、構(gòu)筑 PN 結(jié)、分子或金屬摻雜及尺寸量子化等方式打開石墨烯帶隙、石墨烯與等離子體納米結(jié)構(gòu)結(jié)合、石墨烯與微腔或硅波導(dǎo)集成等多種方法,可以不同程度地提高石墨烯探測器的光響應(yīng)率,以達(dá)到或接近實際應(yīng)用的需要。

由于鋰離子電池具有高容量、無記憶效應(yīng)、快速可逆充放電、高庫倫效率等優(yōu)點(diǎn),其已在便攜式電子產(chǎn)品如shou機(jī)、筆記本電腦、數(shù)碼相機(jī)等中得到廣泛應(yīng)用。然而再近二十年來,人們再大容量鋰離子二次電池的研究商進(jìn)展緩慢。為滿足對高容量鋰離子二次電池的需求,開發(fā)高容量、低成本的新型電極材料具有很高的研究價值。

四、硅石的簡介

硅石一種理想的鋰離子電池負(fù)極材料,其具有很高的理論儲鋰容量以及較低的儲理點(diǎn)位。而在充放電過程中,硅極材料的體積效應(yīng)使得該材料容易粉化,進(jìn)入從集流體上剝落,從而導(dǎo)致容量迅速衰減。而且,硅基材料的較差的循環(huán)穩(wěn)定性大大限制了其應(yīng)用。

石墨烯石油SP2雜化碳原子再二維平面以六角網(wǎng)格形式排列形成的準(zhǔn)二維材料。因其柔性結(jié)構(gòu)、高的縱橫比、優(yōu)異的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性。

五、研磨分散機(jī)的工藝

上海思峻的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運(yùn)行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤??筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SGN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

 

GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

 

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

六、研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)

GMD2000 石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

七、研磨分散機(jī)的特點(diǎn)

1、線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5、高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

 

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