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  • GM2000/4銀漿膠體磨,納米銀漿膠體磨
    GM2000/4銀漿膠體磨,納米銀漿膠體磨

    SGN銀漿膠體磨,納米銀漿膠體磨,銀漿高速膠體磨采用*的結(jié)構(gòu)設計,磨頭精密度高,并配合超高速的轉(zhuǎn)速,Z高轉(zhuǎn)速可達14000rpm,研磨分散效果更佳。

    更新日期:2024-11-18型號:GM2000/4
  • GM2000/4石墨烯電熱涂料膠體磨
    GM2000/4石墨烯電熱涂料膠體磨

    石墨烯電熱涂料膠體磨,石墨烯漿料研磨機,石墨烯改性涂料膠體磨,石墨烯改性涂料,提高涂料的性能。主要是將石墨烯研磨細化后均勻的分散到涂料基質(zhì)當中,然而傳統(tǒng)的涂料研磨分散設備無法滿足分散效果的要求,傳統(tǒng)研磨分散設備轉(zhuǎn)速較低,一般為3000rpm。而采用SGN管線式膠體磨,轉(zhuǎn)速高達14000rpm,研磨粒徑更小,粒徑分布更均勻。

    更新日期:2024-11-18型號:GM2000/4
  • GMO2000/4實驗室錐體磨,實驗室高剪切錐體磨
    GMO2000/4實驗室錐體磨,實驗室高剪切錐體磨

    實驗室錐體磨,實驗室高剪切錐體磨,小試錐體磨,小型錐體磨,專為實驗室研發(fā),模擬生產(chǎn)流程,為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機器和大型量產(chǎn)機型配置相同,且分散頭的種類及相應線速度也相同,中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整,而將機器型號升級過程中的風險降到更低。

    更新日期:2024-11-18型號:GMO2000/4
  • GMD2000/4流體研磨分散機
    GMD2000/4流體研磨分散機

    流體研磨分散機,流體研磨機,流體分散機,流體研磨設備,流體物料的一大特點就是必須要有液體介質(zhì)(水或者油),從而形成乳液或者混懸液。也就是必須是濕法研磨,物料要有良好的流動性。這樣可以更好的細化物料的粒徑,以及物料體系更加的均勻穩(wěn)定。

    更新日期:2024-11-18型號:GMD2000/4
  • 大豆膠體磨
    大豆膠體磨

    大豆膠體磨,大豆的皮很難被磨細,而如果采用SGN高剪切膠體磨的話,可將大豆細化至200目。細度均勻,生產(chǎn)效率高。SGN高剪切膠體磨有著14000rpm的高轉(zhuǎn)速,線速度達到44m/s。膠體磨磨頭符合流體力學的設計,結(jié)構(gòu)精磨,研磨效果好。

    更新日期:2024-11-18型號:
  • GM2000/4焦糖醬膠體磨,焦糖醬研磨機
    GM2000/4焦糖醬膠體磨,焦糖醬研磨機

    焦糖醬膠體磨,焦糖醬研磨機,醬類膠體磨,食品膠體磨,上海思峻專業(yè)從事研磨均質(zhì)乳化設備的研發(fā)與生產(chǎn),SGN高剪切膠體磨轉(zhuǎn)速高達14000轉(zhuǎn),剪切力強,可以充分細化焦糖醬內(nèi)的物料,使焦糖醬產(chǎn)品更加均勻、細膩、穩(wěn)定,得到廣大焦糖醬生產(chǎn)廠的認可。

    更新日期:2024-11-18型號:GM2000/4
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